Lithography Recipes: Difference between revisions
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*[[Nanoimprint Recipes]] |
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*[[Optical Bi-Layer Recipes]] |
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*[[E-Beam Lithography Recipes]] |
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*[[Lab Techniques]] |
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*[[Resist Stripping]] |
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Revision as of 14:47, 21 August 2012
Lithography Recipes
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---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Contact Aligners | Steppers | Flood Expose | E-Beam Lithography | |||||
Positive Resists | SUSS MJB-3 | SUSS MA-6 | Stepper 1 (GCA 6300) |
Stepper 2 (AutoStep 200) |
Stepper 3 (ASML DUV) |
MLA150 (Heidelberg) | ||
AZ4110 | ||||||||
AZ4210 | ||||||||
AZ4330RS | ||||||||
OCG 825-35CS | ||||||||
SPR 950-0.8 | ||||||||
SPR 955 CM-0.9 | ||||||||
SPR 955 CM-1.8 | ||||||||
SPR 220-3.0 | ||||||||
SPR 220-7.0 | ||||||||
THMR-IP3600 HP D | ||||||||
UV6-0.7 | ||||||||
Negative Resists | SUSS MJB-3 | SUSS MA-6 | Stepper 1 (GCA 6300) |
Stepper 2 (AutoStep 200) |
Stepper 3 (ASML DUV) |
MLA150 (Heidelberg) | ||
AZ5214-EIR | ||||||||
AZnLOF 2020 | ||||||||
AZnLOF 2035 | ||||||||
AZnLOF 2070 | ||||||||
AZnLOF P5510 | ||||||||
UVN30-0.5 | ||||||||
SU-8 2015 | ||||||||
SUSS MJB-3 | SUSS MA-6 | Stepper 1 (GCA 6300) |
Stepper 2 (AutoStep 200) |
Stepper 3 (ASML DUV) |
MLA150 (Heidelberg) |