Vacuum Deposition Recipes: Difference between revisions
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Revision as of 18:36, 2 July 2012
Vacuum Deposition Recipes
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| E-Beam Evaporation | Sputtering | Thermal Evaporation | Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) |
Atomic Layer Deposition | Ion-Beam Deposition (IBD) | Molecular Vapor Deposition | |||||||||||
| Material | E-Beam 1 (Sharon) | E-Beam 2 (Custom) | E-Beam 3 (Temescal) | E-Beam 4 (CHA) | Sputter 1 (Custom) | Sputter 2 (SFI Endeavor) |
Sputter 3 | Sputter 4 | Sputter 5 (Lesker AXXIS) | Thermal 1 | Thermal 2 | PECVD 1 (PlasmaTherm 790) |
PECVD 2 (Advanced Vacuum) |
Unaxis VLR ICP-PECVD | |||
| Ag | |||||||||||||||||
| Al | |||||||||||||||||
| Al2O3 | |||||||||||||||||
| AlN | |||||||||||||||||
| Au | |||||||||||||||||
| B | |||||||||||||||||
| Co | |||||||||||||||||
| Cr | |||||||||||||||||
| Cu | |||||||||||||||||
| Fe | |||||||||||||||||
| Ge | |||||||||||||||||
| Hf | |||||||||||||||||
| HfO2 | |||||||||||||||||
| In | |||||||||||||||||
| Ir | |||||||||||||||||
| ITO | |||||||||||||||||
| Mo | |||||||||||||||||
| Bn | |||||||||||||||||
| Ni | |||||||||||||||||
| Pd | |||||||||||||||||
| Pt | |||||||||||||||||
| Ru | |||||||||||||||||
| Si | |||||||||||||||||
| SiN | |||||||||||||||||
| SiO2 | |||||||||||||||||
| SiOxNy | |||||||||||||||||
| Sn | |||||||||||||||||
| SrF2 | |||||||||||||||||
| Ta | |||||||||||||||||
| Ta2O5 | |||||||||||||||||
| Ti | |||||||||||||||||
| TiN | |||||||||||||||||
| TiO2 | |||||||||||||||||
| V | |||||||||||||||||
| W | |||||||||||||||||
| Zn | |||||||||||||||||
| ZnO2 | |||||||||||||||||
| Zr | |||||||||||||||||
| ZrO2 | |||||||||||||||||
Recipes
=E-Beam Evaporation
Sputtering
Thermal Evaporation
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
Atomic Layer Deposition (ALD)
Ion-Beam Deposition (IBD)
==Molecular Vapor Deposition (MVD)