Dry Etching Recipes: Difference between revisions
Jump to navigation
Jump to search
No edit summary |
No edit summary |
||
| Line 4: | Line 4: | ||
|- bgcolor="#D0E7FF" |
|- bgcolor="#D0E7FF" |
||
| <!-- INTENTIONALLY LEFT BLANK --> |
| <!-- INTENTIONALLY LEFT BLANK --> |
||
!height="35" width="300" bgcolor="#D0E7FF" align="center" colspan=" |
!height="35" width="300" bgcolor="#D0E7FF" align="center" colspan="4" | '''[[RIE Etching Recipes|RIE Etching]]''' |
||
! width="300" bgcolor="#D0E7FF" align="center" colspan=" |
! width="300" bgcolor="#D0E7FF" align="center" colspan="5" | '''[[ICP Etching Recipes|ICP Etching]]''' |
||
|- |
|- |
||
!width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | '''Material''' |
!width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | '''Material''' |
||
Revision as of 18:19, 18 July 2012
Dry Etching Recipes
| |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| RIE Etching | ICP Etching | ||||||||
| Material | RIE 1 (Custom) |
RIE 2 (MRC) |
RIE 3 (MRC) |
RIE 5 (PlasmaTherm) |
Si Deep RIE (PlasmaTherm/Bosch Etch) |
ICP Etch 1 (Panasonic E626I) |
ICP Etch 2 (Panasonic E640) |
ICP-Etch (Unaxis VLR) | |
| Al | |||||||||
| Ti | |||||||||
| Cr | |||||||||
| Ge | |||||||||
| Ag | |||||||||
| Ru | |||||||||
| Mo | |||||||||
| Ta | |||||||||
| W | |||||||||
| Al2O3 | |||||||||
| HfO2 | |||||||||
| ITo | |||||||||
| SiO2 | |||||||||
| SiN | |||||||||
| SiOxNy | |||||||||
| Ta2O5 | |||||||||
| TiO2 | |||||||||
| TiN | |||||||||
| ZnO2 | |||||||||
| ZrO2 | |||||||||
| GaAs | |||||||||
| AlGaAs | |||||||||
| InGaAlAs | |||||||||
| InGaAsP | |||||||||
| InP | |||||||||
| GaN | |||||||||
| AlGaN | |||||||||
| AlN | |||||||||
| GaN | |||||||||
| AlGaN | |||||||||
| AlN | |||||||||
| GaSb | |||||||||
| CdTe | |||||||||
| ZnSe | |||||||||
| Si | |||||||||
| SiC | |||||||||
| Sapphire | |||||||||