Dry Etching Recipes
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Dry Etching Recipes
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RIE Etching | ICP Etching | Oxygen Plasma Systems | Other Dry Etchers | ||||||||||||||||||||||||||||
Material | RIE 1 (Custom) |
RIE 2 (MRC) |
RIE 3 (MRC) |
RIE 5 (PlasmaTherm) |
Si Deep RIE (PTI/Bosch) |
ICP Etch 1 (Panasonic 1) |
ICP Etch 2 (Panasonic 2) |
ICP-Etch (Unaxis VLR) |
Ashers (Technics PEII) |
Plasma Clean (Gasonics 2000) |
UV Ozone Reactor | Plasma Activation (EVG 810) |
XeF2 Etch (Xetch) |
Vapor HF Etch (uETCH) |
CAIBE (Oxford) | ||||||||||||||||
Al | A | R | R | ||||||||||||||||||||||||||||
Ti | R | A | |||||||||||||||||||||||||||||
Cr | A | R | A | ||||||||||||||||||||||||||||
Ge | |||||||||||||||||||||||||||||||
Ag | |||||||||||||||||||||||||||||||
Pt | R | ||||||||||||||||||||||||||||||
Au | R | ||||||||||||||||||||||||||||||
Ni | |||||||||||||||||||||||||||||||
Cu | Ru | ||||||||||||||||||||||||||||||
Mo | |||||||||||||||||||||||||||||||
Ta | |||||||||||||||||||||||||||||||
W-TiW | R | A | |||||||||||||||||||||||||||||
Al2O3 | |||||||||||||||||||||||||||||||
HfO2 | |||||||||||||||||||||||||||||||
ITO | R | ||||||||||||||||||||||||||||||
SiO2 | R | R | R | ||||||||||||||||||||||||||||
SiN | R | R | |||||||||||||||||||||||||||||
SiOxNy | |||||||||||||||||||||||||||||||
Ta2O5 | |||||||||||||||||||||||||||||||
TiO2 | |||||||||||||||||||||||||||||||
TiN | |||||||||||||||||||||||||||||||
ZnO2 | |||||||||||||||||||||||||||||||
ZrO2 | |||||||||||||||||||||||||||||||
GaAs | R | R | R | R | |||||||||||||||||||||||||||
AlGaAs | R | R | R | ||||||||||||||||||||||||||||
InGaAlAs | R | R | |||||||||||||||||||||||||||||
InGaAsP | R | ||||||||||||||||||||||||||||||
InP | R | R | |||||||||||||||||||||||||||||
GaN | R | R | R | ||||||||||||||||||||||||||||
AlGaN | |||||||||||||||||||||||||||||||
AlN | |||||||||||||||||||||||||||||||
GaN | |||||||||||||||||||||||||||||||
AlGaN | |||||||||||||||||||||||||||||||
AlN | |||||||||||||||||||||||||||||||
GaSb | |||||||||||||||||||||||||||||||
CdZnTe | R | ||||||||||||||||||||||||||||||
ZnSe | |||||||||||||||||||||||||||||||
Si | R | R | |||||||||||||||||||||||||||||
SiC | R | A | |||||||||||||||||||||||||||||
Sapphire | R | A | |||||||||||||||||||||||||||||
Material | RIE 1 (Custom) |
RIE 2 (MRC) |
RIE 3 (MRC) |
RIE 5 (PlasmaTherm) |
Si Deep RIE (PlasmaTherm/Bosch Etch) |
ICP Etch 1 (Panasonic E626I) |
ICP Etch 2 (Panasonic E640) |
ICP-Etch (Unaxis VLR) |
Ashers (Technics PEII) |
Plasma Clean (Gasonics 2000) |
UV Ozone Reactor | Plasma Activation (EVG 810) |
XeF2 Etch (Xetch) |
Vapor HF Etch (uETCH) |
CAIBE (Oxford) |