Aidan Hopkins: Difference between revisions
(→Tools) |
(→Tools) |
||
| Line 18: | Line 18: | ||
|-valign="top" |
|-valign="top" |
||
|width="300"| |
|width="300"| |
||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
* Wet Benches |
* Wet Benches |
||
**[[Acid Benches]] |
**[[Acid Benches]] |
||
| Line 23: | Line 30: | ||
**[[Photoresist Spin Coat Benches]] |
**[[Photoresist Spin Coat Benches]] |
||
**[[Develop Wet Benches]] |
**[[Develop Wet Benches]] |
||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
* [[Scales]] |
|||
** [[Wet Etch Wafer Scale]] |
|||
** [[Solvent Processing Wafer Scale]] |
|||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
| ⚫ | |||
|} |
|} |
||
Revision as of 21:50, 10 July 2012
|
About
Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. Aenean aliquam sapien mattis urna tempus eu malesuada neque consectetur. Nulla molestie turpis eget felis interdum nec ullamcorper elit gravida. Donec tincidunt odio et neque feugiat et imperdiet neque congue. Suspendisse pretium pulvinar mi, a tincidunt lorem suscipit nec. Vivamus condimentum massa ac enim lobortis dignissim pellentesque turpis fermentum. Fusce ac neque ultricies nisi placerat adipiscing. Duis tristique feugiat feugiat. Quisque nec facilisis nisl.
Current Work
Nullam auctor ligula vel tortor luctus porttitor quis vitae arcu. Mauris venenatis tincidunt leo, vel vehicula lacus ornare in. Suspendisse blandit egestas lectus, sed hendrerit metus condimentum sed. Etiam adipiscing sagittis mattis. Class aptent taciti sociosqu ad litora torquent per conubia nostra, per inceptos himenaeos. Phasellus eu velit justo, nec semper lacus. Sed a quam orci. Maecenas in semper tortor. Etiam ac nunc dui, in laoreet est. Fusce erat nisl, pellentesque iaculis cursus et, sollicitudin a quam. Mauris quis ligula vel enim viverra eleifend. Sed cursus commodo sodales. Nullam dictum odio in augue pharetra placerat. Sed ligula quam, laoreet id sodales at, lacinia a ligula.
Tools
Aidan Hopkins is in charge of the following tools: